Producten

Huis > Producten > Ceramisch Al2O3 > High-Purity Al2O3 Ceramic Susceptor Plates Semiconductor Grade for Wafer Processing Equipment Parts

Categorieën

De keramiek van het siliciumnitride

(101)

de keramiek van het siliciumcarbide

(33)

De Keramiek van het boriumnitride

(24)

Zirconiumdioxyde Ceramisch Blad

(32)

Metalen keramiek

(10)

Contactpersonen

Contactpersonen: Miss. Zhu

Telefoon: 17351500728

Contact opnemen

Mail ons.

High-Purity Al2O3 Ceramic Susceptor Plates Semiconductor Grade for Wafer Processing Equipment Parts

Name: High-Purity Al2O3 Ceramic Susceptor Plates Semiconductor Grade for Wafer Processing Equipment Parts
Brand: Wuxi Special Ceramic Electrical Co.,Ltd
SKU: WS-AL-HP02
Price: 105.00 USD
Availability: InStock

Productgegevens

Plaats van herkomst: Jiangsu, China

Merknaam: Wuxi Special Ceramic

Certificering: ISO 9001:2015

Modelnummer: WS-AL-HP02

Betaling en verzendvoorwaarden

Min. bestelaantal: 10 stuks

Prijs: US$10~US$200/Piece

Verpakking Details: Exportkartons met schuiminzetstukken, gepalletiseerd voor zee- of luchtvracht

Levertijd: 15-30 dagen na bevestiging

Betalingscondities: T/T, L/C, Western Union

Levering vermogen: 100.000 stuks per maand

Vind de beste prijs

Productgegevens

Productbeschrijving

Markeren: 
                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                High Purity Alumina Susceptor, Semiconductor Grade Ceramic Plate, Wafer Processing Equipment Part
                              

Aluminiumoxide -inhoud:	99.5% Al2O3	Zuiverheidsgraad:	Halfgeleiderkwaliteit
Dikte:	3,92 g/cm3	Oppervlakteruwheid:	Ra 0,1-0,4 µm
Vlakheid:	0,02 mm	Kleur:	Ivoor
Sollicitatie:	waferverwerkingsapparatuur	maximum gebruikstemperatuur:	1700 graden C
Functie:	Lage ionische besmetting

Aluminiumoxide -inhoud:	99.5% Al2O3
Zuiverheidsgraad:	Halfgeleiderkwaliteit
Dikte:	3,92 g/cm3
Oppervlakteruwheid:	Ra 0,1-0,4 µm
Vlakheid:	0,02 mm
Kleur:	Ivoor
Sollicitatie:	waferverwerkingsapparatuur
maximum gebruikstemperatuur:	1700 graden C
Functie:	Lage ionische besmetting

High-Purity Al2O3 Ceramic Susceptor Plates Semiconductor Grade for Wafer Processing Equipment Parts

Semiconductor wafer processing demands materials that neither shed particles nor leach metallic contamination into the process environment. Our High-Purity Al2O3 Ceramic Susceptor Plates are manufactured from 99.5% alpha alumina with tightly controlled trace element levels, then fired in a clean production line to produce a fully dense, pore-free body that stays chemically silent even under plasma and high bias conditions. Each plate is diamond ground and lapped to a flatness

Tags:

Ceramisch Al2O3

Steatietkeramiek

De keramiek van het siliciumnitride

Zirconiumdioxydekeramiek

ceramische verdampingsboot

de keramiek van het siliciumcarbide

Cordierietkeramiek

Mullite Keramiek

Keramieksubstraat

De Keramiek van het boriumnitride

Ceramische Schacht

Ceramische pijp

Ceramisch zirconiumdioxyde

Ceramische Macor

halfgeleiderkeramiek

Zirconiumdioxyde Ceramisch Blad

Y2O3 poeder

Ceramisch aluminiumnitride

Metalen keramiek

High-Purity Al2O3 Ceramic Susceptor Plates Semiconductor Grade for Wafer Processing Equipment Parts

High Purity Alumina Susceptor

Semiconductor Grade Ceramic Plate

Wafer Processing Equipment Part

alumina ceramische plaat,

Al2o3 Ceramische Plaat,

Ceramisch Al2O3

Steatietkeramiek

De keramiek van het siliciumnitride

Zirconiumdioxydekeramiek

ceramische verdampingsboot

de keramiek van het siliciumcarbide

Cordierietkeramiek