Producten

Huis > Producten > Ceramisch Al2O3 > Polished-Surface Al2O3 Ceramic Wafer Chuck Mirror Finish Alumina Vacuum Grade for Semiconductor Processing Equipment

Categorieën

De keramiek van het siliciumnitride

(101)

de keramiek van het siliciumcarbide

(33)

De Keramiek van het boriumnitride

(24)

Zirconiumdioxyde Ceramisch Blad

(32)

Metalen keramiek

(10)

Contactpersonen

Contactpersonen: Miss. Zhu

Telefoon: 17351500728

Contact opnemen

Mail ons.

Polished-Surface Al2O3 Ceramic Wafer Chuck Mirror Finish Alumina Vacuum Grade for Semiconductor Processing Equipment

Name: Polished-Surface Al2O3 Ceramic Wafer Chuck Mirror Finish Alumina Vacuum Grade for Semiconductor Processing Equipment
Brand: Wuxi Special Ceramic Electrical Co.,Ltd
SKU: WS-AL-PS14
Price: 95.00 USD
Availability: InStock

Productgegevens

Plaats van herkomst: Jiangsu, China

Merknaam: Wuxi Special Ceramic

Certificering: ISO 9001:2015

Modelnummer: WS-AL-PS14

Betaling en verzendvoorwaarden

Min. bestelaantal: 10 stuks

Prijs: US$10~US$180/Piece

Verpakking Details: Exportkartons met schuiminzetstukken, gepalletiseerd voor zee- of luchtvracht

Levertijd: 15-30 dagen na bevestiging

Betalingscondities: T/T, L/C, Western Union

Levering vermogen: 100.000 stuks per maand

Vind de beste prijs

Productgegevens

Productbeschrijving

Markeren: 
                                                                                                                                                                                                                                                                                                                Polished Alumina Wafer Chuck, Mirror Finish Ceramic Part, Semiconductor Processing Equipment
                              

Aluminiumoxide -inhoud:	99.5% Al2O3	Oppervlakteafwerking:	Spiegel gepolijst
Oppervlakteruwheid:	Ra 0,02 µm	Zuiverheidsgraad:	Vacuümkwaliteit
Dikte:	3,92 g/cm3	Kleur:	Ivoor
Sollicitatie:	apparatuur voor de verwerking van halfgeleiders	maximum gebruikstemperatuur:	1700 graden C

Aluminiumoxide -inhoud:	99.5% Al2O3
Oppervlakteafwerking:	Spiegel gepolijst
Oppervlakteruwheid:	Ra 0,02 µm
Zuiverheidsgraad:	Vacuümkwaliteit
Dikte:	3,92 g/cm3
Kleur:	Ivoor
Sollicitatie:	apparatuur voor de verwerking van halfgeleiders
maximum gebruikstemperatuur:	1700 graden C

Polished-Surface Al2O3 Ceramic Wafer Chuck Mirror Finish Alumina Vacuum Grade for Semiconductor Processing Equipment

In semiconductor processing, the surface that touches the wafer must be perfect: smooth enough to avoid particle trapping, clean enough to avoid contamination, and stable enough to hold wafers flat at process temperature. Our Polished-Surface Al2O3 Ceramic Wafer Chucks are pressed and sintered from vacuum grade 99.5% alumina, then ground and polished to a mirror finish with roughness down to 0.02 microns Ra. The dense, non-porous surface releases wafers cleanly, resists the

Tags:

Ceramisch Al2O3

Steatietkeramiek

De keramiek van het siliciumnitride

Zirconiumdioxydekeramiek

ceramische verdampingsboot

de keramiek van het siliciumcarbide

Cordierietkeramiek

Mullite Keramiek

Keramieksubstraat

De Keramiek van het boriumnitride

Ceramische Schacht

Ceramische pijp

Ceramisch zirconiumdioxyde

Ceramische Macor

halfgeleiderkeramiek

Zirconiumdioxyde Ceramisch Blad

Y2O3 poeder

Ceramisch aluminiumnitride

Metalen keramiek

Polished-Surface Al2O3 Ceramic Wafer Chuck Mirror Finish Alumina Vacuum Grade for Semiconductor Processing Equipment

Polished Alumina Wafer Chuck

Mirror Finish Ceramic Part

Semiconductor Processing Equipment

alumina ceramische plaat,

Al2o3 Ceramische Plaat,

Ceramisch Al2O3

Steatietkeramiek

De keramiek van het siliciumnitride

Zirconiumdioxydekeramiek

ceramische verdampingsboot

de keramiek van het siliciumcarbide

Cordierietkeramiek